特許
J-GLOBAL ID:200903003627519448
皮膚の色素除去のためのセラミドの使用
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-545065
公開番号(公開出願番号):特表2009-519306
出願日: 2006年12月15日
公開日(公表日): 2009年05月14日
要約:
本発明は、皮膚を色素除去するおよび/もしくはホワイトニングするための剤、特には、色素性のシミおよび/もしくは老化によるシミを除去するための剤としての、ならびに/または、抗褐色化剤としての、以下の式(I): R1-CHOH-CH(NH-COR2)(CH2OH) (I)[式中、R1は、C11からC21のアルキル基を定義し、R2は、直鎖で、ヒドロキシル化されていてもよいC11-C19の炭化水素系の基を定義し、ここで、前記ヒドロキシル基は、カルボニルに対してアルファ位に存在し、前記C11-C19の炭化水素系基は、1つまたは複数のエチレン性不飽和、特には1つまたは2つのエチレン性不飽和を含みうる]の化合物の使用に関する。 本発明は、また、生理学的に許容可能な媒体中に、式(I)の化合物を含む組成物の、皮膚への塗布を含む、色素沈着的シミを示す皮膚を色素除去および/または明るくするための美容方法に関する。
請求項(抜粋):
皮膚を色素除去するおよび/もしくはホワイトニングするための剤、特には、色素性のシミおよび/もしくは老化によるシミを除去するための剤としての、ならびに/または、抗褐色化剤としての、以下の式(I):
R1-CHOH-CH(NH-COR2)(CH2OH) (I)
[式中、R1は、C11からC21のアルキル基を定義し、R2は、直鎖で、ヒドロキシル化されていてもよいC11-C19の炭化水素系の基を定義し、ここで、前記ヒドロキシル基は、カルボニルに対してアルファ位に存在し、前記C11-C19の炭化水素系基は、1つまたは複数のエチレン性不飽和、特には1つまたは2つのエチレン性不飽和を含みうる]
の化合物の使用。
IPC (9件):
A61K 31/164
, A61K 31/60
, A61K 31/495
, A61P 17/00
, A61K 8/68
, A61K 8/368
, A61K 8/49
, A61Q 19/02
, A61Q 19/08
FI (9件):
A61K31/164
, A61K31/60
, A61K31/495
, A61P17/00
, A61K8/68
, A61K8/368
, A61K8/49
, A61Q19/02
, A61Q19/08
Fターム (70件):
4C083AA122
, 4C083AC072
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC242
, 4C083AC402
, 4C083AC422
, 4C083AC471
, 4C083AC472
, 4C083AC532
, 4C083AC542
, 4C083AC582
, 4C083AC641
, 4C083AC642
, 4C083AC851
, 4C083AC852
, 4C083AD012
, 4C083AD022
, 4C083AD072
, 4C083AD092
, 4C083AD152
, 4C083AD172
, 4C083AD212
, 4C083AD222
, 4C083AD332
, 4C083AD352
, 4C083AD392
, 4C083BB51
, 4C083CC04
, 4C083CC05
, 4C083DD22
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD31
, 4C083DD38
, 4C083EE06
, 4C083EE10
, 4C083EE11
, 4C083EE16
, 4C086AA01
, 4C086AA02
, 4C086BC59
, 4C086DA17
, 4C086MA01
, 4C086MA02
, 4C086MA03
, 4C086MA04
, 4C086MA10
, 4C086MA17
, 4C086MA22
, 4C086MA63
, 4C086NA14
, 4C086ZA89
, 4C086ZC52
, 4C206AA01
, 4C206AA02
, 4C206GA03
, 4C206GA04
, 4C206GA26
, 4C206MA01
, 4C206MA02
, 4C206MA03
, 4C206MA04
, 4C206MA14
, 4C206MA37
, 4C206MA42
, 4C206MA83
, 4C206NA14
, 4C206ZA89
, 4C206ZC52
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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