特許

J-GLOBAL ID：200903003676581752

基板の洗浄方法及び洗浄装置

発明者： 小島 健一 ,  八野 耕明
出願人/特許権者： 株式会社プラズマシステム
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-072708
公開番号（公開出願番号）：特開平11-274132
出願日： 1998年03月20日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】 基板に付着したフォトレジスト膜等の有機物を洗浄除去するに際して、有機溶剤等を使用せず、無機質の基板要素に損傷を与えることなく、確実かつ効率的に除去することができる洗浄方法と洗浄装置を得る。【解決手段】 超臨界水発生器10と洗浄器20とからなる基板洗浄装置の洗浄室21内に基板1...を挿填し、超臨界水発生器10で生成した超臨界状態の水で基板1...を洗浄する。

請求項（抜粋）：

基板に付着した有機物を除去するに際して、この基板を超臨界状態の水で洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 648 ,  B08B 3/04 ,  C23G 1/00 ,  C23G 3/00

FI (4件)：

H01L 21/304 648 G ,  B08B 3/04 Z ,  C23G 1/00 ,  C23G 3/00 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平2-098928
  
• 超臨界水を反応媒体として用いるバッチ式反応容器内の反応圧力調整方法及び反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-347905   出願人：オルガノ株式会社