特許
J-GLOBAL ID:200903003682236935

インダクタの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 隆久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-246780
公開番号(公開出願番号):特開2003-059744
出願日: 2001年08月15日
公開日(公表日): 2003年02月28日
要約:
【要約】【課題】GHz以上の周波数帯域でQ値を向上することができ、インダクタンス値のバラツキの少ないインダクタの製造方法を提供する。【解決手段】薄い銅からなるベース板5の上に、レジストによりインダクタパターンの開口を形成し、金メッキ、ニッケルメッキ、銅メッキを行い、その上面にポリイミド樹脂等の基板材料を接着または塗布して基板1を形成し、ベース板5を除去し、その後レジストパターンRを除去してインダクタ2を形成する。
請求項(抜粋):
基板上に形成された所定パターンの導体層よりなるインダクタの製造方法であって、第1基板上に、前記導体層の形成領域に開口を有するマスク層を形成する工程と、前記開口内における前記第1基板上に、前記導体層を形成する工程と、前記マスク層および前記導体層上に、前記導体層に固着するように第2基板を設ける工程と、前記第1基板を除去する工程と、前記マスク層を除去する工程とを有するインダクタの製造方法。
Fターム (1件):
5E062DD01
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭60-001821
  • セラミック配線基板
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-277275   出願人:イビデン株式会社
  • 特開昭60-001821

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