特許
J-GLOBAL ID：200903003742877951
酸発生剤、スルホン酸とその誘導体、含ハロゲンノルボルナン系化合物および感放射線性樹脂組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-312281
公開番号（公開出願番号）：特開2005-075824
出願日： 2003年09月04日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】燃焼性や人体蓄積性に問題がなく、発生する酸の酸性度および沸点が高く、レジスト被膜中での酸の拡散長が適度に短く、特に、マスクパターンの疎密度への依存性が小さく、かつナノエッジラフネスが改善されたレジストパターンを形成しうる新規な酸発生剤、該酸発生剤から発生するスルホン酸、該酸発生剤を合成する原料等として有用なスルホン酸誘導体および関連化合物、並びに該酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】酸発生剤は、下記一般式(I)で表される構造を有する。 【化1】〔但し、R1 はアルコキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルコキシスルホニル基等の1価の置換基を示し、mは0以上の整数、nは1または2である。〕 感放射線性樹脂組成物は、前記酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される構造を有する化合物からなる酸発生剤。
IPC (8件)：
C07C309/19
, C07C23/38
, C07C309/80
, C07C381/12
, G03F7/004
, G03F7/038
, G03F7/039
, H01L21/027
C07C309/19
, C07C23/38
, C07C309/80
, C07C381/12
, G03F7/004 503A
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CC17
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB99
, 4H006EA14
