特許
J-GLOBAL ID：200903003832346521

残留塩素除去剤及びそれを用いた残留塩素含有水の処理方法

発明者：
塚谷 才英

塚谷 才英 について

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石塚 俊章

石塚 俊章 について

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片野 肇

片野 肇 について

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巽 広輔

巽 広輔 について


出願人/特許権者：
日華化学株式会社

日華化学株式会社 について

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福井県

福井県 について


代理人 (1件)： 長濱 範明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-275066
公開番号（公開出願番号）：特開2007-144399
出願日： 2006年10月06日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】遊離塩素や結合塩素等の残留塩素を含有する水を加熱処理することなく、触媒的に水中に含まれる残留塩素を十分に分解除去することを可能とする残留塩素除去剤を提供すること。【解決手段】(A)下記一般式(1):【化1】[式(1)中、R1、R2及びR3は、それぞれ炭素数1〜4のアルキル基等を表す。]で表される3級アミン、 N,N-ジ置換アミノアルキル(メタ)アクリレート重合体、 N,N-ジ置換アミノアルキル(メタ)アクリルアミド重合体、 N,N-ジ置換アミノアルキル化スチレン重合体、 N,N-ジ置換アミノアルキル化シリカゲル、及び N,N-ジ置換アミノアルキル化ゼオライトからなる群から選択される少なくとも1種の3級アミノ化合物;及び/又は;(B)下記一般式(2):【化2】[式(2)中、R4は、アミノ基等を表す。]で表されるグアニジノ化合物;を含有することを特徴とする残留塩素除去剤。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1):
IPC (2件)：
B01J 31/02 ,  C02F 1/58
FI (2件)：
B01J31/02 102M ,  C02F1/58 L
Fターム (35件)：
4D038AB39 ,  4D038BB08 ,  4D038BB09 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4G169AA02 ,  4G169AA06 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BA38 ,  4G169BB08B ,  4G169BD12B ,  4G169BE08B ,  4G169BE13A ,  4G169BE13B ,  4G169BE14A ,  4G169BE14B ,  4G169BE21A ,  4G169BE21B ,  4G169BE32B ,  4G169BE36A ,  4G169BE36B ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169CA05 ,  4G169CA11 ,  4G169DA06 ,  4G169DA08 ,  4G169ZA19B
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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