特許
J-GLOBAL ID:200903003868069737
肌状態解析方法、肌状態解析装置、肌状態解析プログラム、及び該プログラムが記録された記録媒体
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-133275
公開番号(公開出願番号):特開2006-305184
出願日: 2005年04月28日
公開日(公表日): 2006年11月09日
要約:
【課題】 被験者の肌のキメ又は毛穴の解析を高精度に行う。【解決手段】 被験者の肌が撮影された画像を用いて肌のキメ又は毛穴の解析を行うための肌状態解析方法において、前記画像から得られる毛穴の大きさ、皮溝の鮮明さ、皮丘の細かさ、及び皮丘の形状のうち、少なくとも1つをパラメータ化するパラメータ生成ステップと、前記パラメータ生成ステップから得られるパラメータに基づいて肌のキメ又は毛穴の解析を行う解析ステップとを有することにより、上記課題を解決する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被験者の肌が撮影された画像を用いて肌のキメ又は毛穴の解析を行うための肌状態解析方法において、
前記画像から得られる毛穴の大きさ、皮溝の鮮明さ、皮丘の細かさ、及び皮丘の形状のうち、少なくとも1つをパラメータ化するパラメータ生成ステップと、
前記パラメータ生成ステップから得られるパラメータに基づいて肌のキメ又は毛穴の解析を行う解析ステップとを有することを特徴とする肌状態解析方法。
IPC (3件):
A61B 5/107
, A61B 5/00
, G06T 1/00
FI (3件):
A61B5/10 300Q
, A61B5/00 M
, G06T1/00 290Z
Fターム (47件):
4C038VA04
, 4C038VB22
, 4C038VC05
, 4C117XA02
, 4C117XB01
, 4C117XB09
, 4C117XB11
, 4C117XB13
, 4C117XC19
, 4C117XC20
, 4C117XD05
, 4C117XE43
, 4C117XF01
, 4C117XF03
, 4C117XF16
, 4C117XF21
, 4C117XG02
, 4C117XJ01
, 4C117XJ05
, 4C117XJ32
, 4C117XJ33
, 4C117XK02
, 4C117XK03
, 4C117XK09
, 4C117XK14
, 4C117XK16
, 4C117XK18
, 4C117XK22
, 4C117XK25
, 4C117XL17
, 4C117XM01
, 4C117XM04
, 4C117XP03
, 4C117XR05
, 5B057AA07
, 5B057CA01
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CE03
, 5B057CE16
, 5B057CH01
, 5B057DA08
, 5B057DB02
, 5B057DB06
, 5B057DB09
, 5B057DC04
, 5B057DC25
引用特許:
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
引用文献:
前のページに戻る