特許

J-GLOBAL ID：200903003926644526

ポリゴンのラスタ化

発明者： レンツ デレク ジェイ ,  コズモル デビッド アール ,  プール グレン シー
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-511097
公開番号（公開出願番号）：特表平8-502845
出願日： 1993年10月12日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：

【要約】本発明はポリゴンのラスタ化のためのシステム並びに方法を提供するものである。ポリゴン(例えば、三角形)の各エッジは、ポリゴンの面内に存在する各画素を分類する一次エッジ関数で表される。具体的には、正の値を有する画素はエッジの片側に、負ならその反対側にある。ポリゴン面内の各画素は、画素とポリゴンのそれぞれのエッジとの間の符号付きの水平距離を表すエッジ変数集合と関係するようになっている。画素は、エッジ関数により生成される画素のエッジ変数の値に基づいて表示される。本発明によりエッジ関数が画素の線形スパンに適用できるようになる。先ず最初に、三角形内の与えられた画素に対するエッジ変数集合の値を、その三角形に関する3つのエッジ関数を評価することによって、確定する。どの画素を表示するかを確定するために、本発明ではこれらのエッジ変数値に基づきWビットのレンダ・マスクを生成する。本発明により、スパン内の残りの画素に対して余分の計算をせずに、これらの値を画素のスパンに適用することができるようになる。

請求項（抜粋）：

特許請求の範囲は以下の通りである。 1.ポリゴンをラスタ化するためにどの画素を三角形の一部として表示するかを決定するコンピュータ・ベースの方法で、その方法が、 (1)三角形の3つのエッジに対して、第1の画素が三角形の内側に入るか外側に出るかを個々に示す3つのエッジ変数を生成するステップと、 (2)前記エッジ変数の値に基づき、画素スパン内の第1画素を前記の第1画素とする、画素のスパンを表す3つのマスクを生成するステップと、 (3)前記画素スパン内のどの画素が表示されるべきかを表すレンダ・マスクを作るために前記の3つのマスクの論理積をとるステップと、 から成ることを特徴とするコンピュータ・ベースの方法。 2.前記画素スパンの後に位置する次の画素までその三角形をトラバースするステップと、前記エッジ変数に1つの増分値を加算するステップと、上記のステップ(2)及び(3)を繰り返すステップとからさらに成ることを特徴とする請求項1記載のコンピュータ・ベースの方法。 3.Wビットの文字列で構成される前記レンダ・マスクが、(x,y)位置の画素に対するレンダ・マスク・ビットと、横の行における次のW-1の画素に対するレンダ・マスク・ビットとを有することを特徴とする請求項1記載のコンピュータ・ベースの方法。 4.前記エッジ変数の各々が符号ビット、スパン位置ビット、及びサブ・スパン位置ビットを包含し、さらに上記(2)の生成のステップが、前記符号ビットが負ならば、前記スパン内の全ての画素が表示されるべきでないことを示すマスクを提供するステップから成ることを特徴とする請求項1記載のコンピュータ・ベースの方法。 5.前記エッジ変数の各々が符号ビット、スパン位置ビツト、及びサブ・スパン位置ビットを包含し、さらに上記(2)の生成のステップが、前記スパン位置ビットが全てゼロでなければ、前記スパン内の全ての画素が表示されるべきことを示すマスクを提供するステップから成ることを特徴とする請求項1記載のコンピュータ・ベースの方法。 6.前記画素スパンが2のべき乗であることを特徴とする請求項1記載のコンピュータ・ベースの方法。 7.ポリゴンをラスタ化するためにどの両素を三角形の一部として表示するかを決定するコンピュータ・ベースのシステムで、そのシステムが、 (a)第1画素が三角形の内側に入るのか外側に出るのかを個々に示す3つのエッジ変数を生成するよう構成されており、複数のレジスタと少なくとも1つ以上の加算/減算器とを有する整数データパスと、 (b)前記整数データパスから前記の3つのエッジ変数を受け取るように適性化され、そして画素スパン内のどの両素が三角形の一部として表示されるかを示すレンダ・マスクを生成するようにさらに適性化されている画素マスク生成ユニットと、 (c)前記画素マスク生成ユニツトから前記レンガ・マスクを取り込み、メモリ・システムに対して各画素を表示するか否かのコマンドを発するレンダリング・ユニットと、 から成ることを特徴とするコンピュータ・ベース・システム。 8.前記画素マスク生成ユニットが、前記エッジ変数値に基づき画素スパンを表す3つのマスクを生成するマスク手段と、さらに前記画素スパン内のどの画素が表示されるべきかを表すレンダ・マスクを作るために前記の3つのマスクの論理積をとる手段とから成ることを特徴とする請求項7記載のコンピュータ・ベース・システム。 9.前記マスク手段が、前記エッジ変数値により異なるマスクを提供するルックアップ・テーブルから成ることを特徴とする請求項8記載のコンピュータ・ベース・システム。 10.前記画素スパンが前記メモリ・システムによってアクセスされるデータのブロックに対応することを特徴とする請求項7記載のコンピュータ・ベース・システム。 11.前記エッジ変数が与えられた1画素と三角形のエッジの1つとの間の符号付きの水平距離を表すことを特徴とする請求項7記載のコンピュータ・ベース・システム。

引用特許：

出願人引用 (1件)

• パターン描画方式
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-284300   出願人：北海道日本電気ソフトウエア株式会社