特許
J-GLOBAL ID：200903003936654376

洗浄装置及びエッチング装置並びに洗浄方法及びエッチング方法

発明者：
下堂薗 寿

下堂薗 寿 について


出願人/特許権者：
鹿児島日本電気株式会社

鹿児島日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-140464
公開番号（公開出願番号）：特開2001-314824
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：
【要約】【課題】スプレー処理の前にシャワー処理を行う洗浄装置もしくはエッチング装置において、進行する被処理基板の先頭部分と末端部分とのシャワー処理差を抑制する。【解決手段】シャワー処理室2内に可動シャワーノズル1を設け、スプレー処理室4内にスプレーノズル3を設け、入り口から入室された被処理基板30が搬送手段5によりシャワー処理室2をスプレー処理室4に向かって進行する洗浄装置もしくはエッチング装置において、可動シャワーノズル1は被処理基板30の進行方向30Aとは逆の方向に駆動軸7を中心に回転する。
請求項（抜粋）：
シャワー処理室内にシャワーノズルを設け、スプレー処理室内にスプレーノズルを設け、入り口から入室された被処理基板が搬送手段により前記シャワー処理室を前記スプレー処理室に向かって進行する洗浄装置において、前記シャワーノズルは前記被処理基板の進行方向とは逆の方向に回転可能であることを特徴とする洗浄装置。
IPC (2件)：
B08B 3/02 ,  B08B 3/04
FI (2件)：
B08B 3/02 C ,  B08B 3/04 Z
Fターム (8件)：
3B201AA02 ,  3B201AB16 ,  3B201BB24 ,  3B201BB33 ,  3B201BB43 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CC12
引用特許：
審査官引用 (2件)

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