特許

J-GLOBAL ID：200903003938243721

イオン注入のためのイオン源装置

発明者： ピエロ スフェラッゾー ,  ピーター ローズ ,  フランク レイモンド トルエイラ
出願人/特許権者： イートン コーポレーション
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-267672
公開番号（公開出願番号）：特開平8-212935
出願日： 1995年09月21日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【課題】イオン源の作動寿命を高め、マイクロ波発生器とプラズマ室との間でマイクロ波エネルギ結合を向上させること。【解決手段】マイクロ波励起形イオン源装置が、ハウジングアセンブリ22によって定められた空間57内に延出している支持管94によって支持され、プラズマ室42と、一対のベーパライザ44と、エネルギ伝送手段と、磁界発生アセンブリ46を備える。プラズマ室42の内部領域50へ、ソース物質及びイオン化が可能なガスが送られ、室42に重ねられたキャップ62のアークスリット64を通って、発生イオンがプラズマ室42から出る。エネルギ伝送手段は、マイクロ波エネルギをTEMモードで室42へ送り、同軸のマイクロ波エネルギ伝送線中央導体54を備えている。導体54の一端部66が、プラズマ室42の窪んだ壁部68にはめ込まれており、マイクロ波エネルギをプラズマ室42へ伝送する。

請求項（抜粋）：

脱気領域内に支持され、かつソース物質及びイオン化するガスが送り込まれる内部室(50)が形成されるプラズマ室(42)と、このプラズマ室(42)内のガスをイオン化するために、プラズマ室(42)内の電子を高エネルギまで加速するエネルギ入力手段(40)とを備えているイオン源装置(12)であって、(a) プラズマ室(42)は、開口と、この開口から離れた壁部(68)とを有しており、壁部は、プラズマ室(42)内へエネルギを噴射するエネルギ放出表面を備えており、(b) プラズマ室(42)の開口に密封係合し、かつイオンビームを形成するためにイオンがプラズマ室(42)を出る際に通る細長いアークスリット(64)を備えているプラズマ室キャップ(62)を備えており、(c) エネルギ入力手段(40)は、前記プラズマ室の壁部(68)に当接して、エネルギを前記壁部(68)から内部領域(50)へ伝送する端部分(66)と、ソース源ハウジング(74)によって囲まれた脱気領域内でマイクロ波または高周波エネルギ をプラズマ室(42)へ送る伝送部(52)とを備えている、ことを特徴とするイオン源装置。

IPC (5件)：

H01J 27/18 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (2件)

• イオン源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-010823   出願人：日新電機株式会社
• 特開平4-132198