特許
J-GLOBAL ID：200903003944036088
偏光板用保護膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-220948
公開番号（公開出願番号）：特開2003-025351
出願日： 2001年07月23日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】ハードコート層やアンチグレア層、ポリマー配向膜などの機能性層を保護膜上に簡便にかつ効率的に形成できる偏光板用保護膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】上記の課題は以下の本発明の製造方法により解決される。セルローストリアセテートを溶剤に溶解したドープをバンド又はドラム上に流延し、バンド又はドラム上から剥ぎ取った後、乾燥工程をへて作製する偏向板用保護膜の製造方法において、ドープ流延により形成された層が湿潤状態にある内に該層上に機能性層形成用液を塗布することを特徴とする偏光板用保護膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
セルローストリアセテートを溶剤に溶解したドープをバンド又はドラム上に流延し、バンド又はドラム上から剥ぎ取った後、乾燥工程をへて作製する偏向板用保護膜の製造方法において、ドープ流延により形成された層が湿潤状態にある内に該層上に機能性層形成用液を塗布することを特徴とする偏光板用保護膜の製造方法。
IPC (4件)：
B29C 41/26
, B29C 41/28
, B29K 1:00
, B29L 7:00
B29C 41/26
, B29C 41/28
, B29K 1:00
, B29L 7:00
4F205AA01
, 4F205AG01
, 4F205AH73
, 4F205AM26
, 4F205GA07
, 4F205GB02
, 4F205GC02
, 4F205GC07
, 4F205GN21
, 4F205GW50
