化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-088788
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272782
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】レジスト諸性能に優れ、特に解像度及び露光余裕度が一層改良された化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】アクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及び(メタ)アクリル酸3、5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位から選ばれる少なくとも1種の重合単位、ヒドロキシスチレンの重合単位並びに酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリに可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。酸に不安定な基を持つ重合単位は、例えば、次式(V)(式中、Qは酸に不安定な基、例えば1-アルコキシアルコキシ基を表す)で示されるものであることができる。

請求項（抜粋）：

アクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及び(メタ)アクリル酸3、5-ジヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位から選ばれる少なくとも1種の重合単位、ヒドロキシスチレンの重合単位並びに酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリに可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/039 601 , C08F 2/48 , C08F212/14 , C08F220/20 , C08K 5/00 , C08K 5/16 , C08L 25/18 , C08L 33/14 , H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 , C08F 2/48 , C08F212/14 , C08F220/20 , C08K 5/00 , C08K 5/16 , C08L 25/18 , C08L 33/14 , H01L 21/30 502 R

Fターム (54件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA10 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE08 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025BJ01 , 2H025CB17 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB52 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA17 , 4J002BC121 , 4J002BG071 , 4J002EN057 , 4J002EQ016 , 4J002EU047 , 4J002EU077 , 4J002EU117 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV236 , 4J002EW046 , 4J002EY016 , 4J002EY026 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002GP03 , 4J011UA00 , 4J100AB07P , 4J100AB07R , 4J100AL08Q , 4J100BA02R , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA04R , 4J100BA22R , 4J100BC01R , 4J100BC09Q , 4J100BC52R , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-282664 出願人：ダイセル化学工業株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-079458 出願人：富士写真フイルム株式会社
特許第3785846号

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