特許
J-GLOBAL ID：200903032475371750
放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 良和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-282664
公開番号（公開出願番号）：特開平11-109632
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：
【要約】【課題】 遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料を提供すること。【解決手段】 極性基を含む脂環式官能基、例えば、ヒドロキシアダマンチル基、及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基、例えば、t-ブチルメタクリレートを1分子中にそれぞれ少なくとも1つ以上有する樹脂(A)、及び放射線照射により酸を発生する物質(B)、例えば、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモンからなる放射線感光材料。
請求項（抜粋）：
極性基含有脂環式官能基、及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を1分子中にそれぞれ少なくとも1つ以上有する樹脂(A)、及び放射線照射により酸を発生する物質(B)からなる放射線感光材料。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/20 505
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, G03F 7/20 505
, H01L 21/30 502 R
