特許
J-GLOBAL ID:200903003991946530
タングステンの蝕刻抑制剤を含むポリシング組成物
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-212514
公開番号(公開出願番号):特開平11-116948
出願日: 1998年07月28日
公開日(公表日): 1999年04月27日
要約:
【要約】本発明は、タングステンを蝕刻できる成分及び少なくとも一つのタングステンの蝕刻抑制剤を含む化学機械的ポリシング組成物並びにスラリーに関する。また、本発明はこの組成物及びスラリーを使用してタングステンを含む基板を洗浄する方法に関する。
請求項(抜粋):
タングステンを蝕刻できる化合物及び少なくとも一つのタングステンの蝕刻抑制剤を含む化学機械的ポリシング組成物。
IPC (5件):
C09K 13/04
, B24B 37/00
, C09K 15/20
, H01L 21/304 622
, H01L 21/306
FI (5件):
C09K 13/04
, B24B 37/00 H
, C09K 15/20
, H01L 21/304 622 D
, H01L 21/306 M
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
研磨剤および研磨方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-055290
出願人:株式会社東芝
-
特表平4-501138
前のページに戻る