特許
J-GLOBAL ID：200903004035132750
堆積膜形成装置および堆積膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-023081
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214277
出願日： 2000年01月31日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：
【要約】【課題】 開口調整板を有する成膜装置において、成膜速度を高めるために電極-基板間距離を縮めても、良質な薄膜を堆積することにある。【解決手段】 開口調整板203と電力印加電極201の距離が電極印加電極201と基板202の距離よりも大きくなるように、電力印加電極201の端部の厚さがその端部に向けて減少している。
請求項（抜粋）：
真空室内で、電力印加電極と、該電力印加電極に対向して配置された電極となりうる基板との間の放電空間にプラズマを発生させて、真空室内に導入される原料ガスを分解し、基板上に堆積膜を形成させる堆積膜形成装置において、原料ガス吹き出し部と排気口部の両方もしくは何れか一方にプラズマを遮断する開口調整板を有し、前記電力印加電極と前記基板の最短距離より、前記電力印加電極と前記開口調整板の距離が大きくなるようにしたことを特徴とする堆積膜形成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (27件)：
4K030AA06
, 4K030AA17
, 4K030BA30
, 4K030CA17
, 4K030EA05
, 4K030EA06
, 4K030FA03
, 4K030KA12
, 4K030KA15
, 4K030LA16
, 5F045AA08
, 5F045AB04
, 5F045AC01
, 5F045AF07
, 5F045AF10
, 5F045BB01
, 5F045BB15
, 5F045CA13
, 5F045DP22
, 5F045DQ10
, 5F045EB02
, 5F045EE14
, 5F045EE20
, 5F045EH04
, 5F045EH13
, 5F045EK07
, 5F045EK13
