特許
J-GLOBAL ID:200903004043315448
EL素子の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-079835
公開番号(公開出願番号):特開2001-267068
出願日: 2000年03月22日
公開日(公表日): 2001年09月28日
要約:
【要約】【課題】 EL素子の工程数の少ない簡便な製造方法であって、歩留まり、生産性、コストなどに優れたEL素子の製造方法を提供する。【解決手段】 対向する電極と、前記対向する電極の間にEL層を有してなる、EL素子の製造方法であって、前記一方の電極上にEL層を形成する工程と、前記EL層上に他方の電極を形成する工程とを含み、前記EL層の形成にあたり、EL層形成液と、前記EL層形成液に混合しない隔離液とを同時に塗布する。
請求項(抜粋):
対向する電極と、前記対向する電極の間にEL層を有してなる、EL素子の製造方法であって、前記一方の電極上にEL層を形成する工程と、前記EL層上に他方の電極を形成する工程とを含み、前記EL層の形成にあたり、EL層形成液と、前記EL層形成液に混合しない隔離液とを同時に塗布することを特徴とする、EL素子の製造方法。
Fターム (8件):
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
引用特許: