特許
J-GLOBAL ID：200903004073128472
真空蒸着装置における成膜材料供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 善▲廣▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-377143
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199050
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：
【要約】【課題】 成膜作業に際して行う脱ガスのための立ち上げ時間の短縮を図るとともに、成膜室内の雰囲気を変えることなく成膜材料を成膜室内に供給することができる真空蒸着装置における成膜材料供給装置を提供すること。【解決手段】 リングハース上に収容した成膜材料を昇華させ、基板上に保護膜を形成する成膜室を備えた真空蒸着装置であって、前記リングハース上に成膜材料を供給する第一の材料供給手段と、前記第一の材料供給手段に成膜材料を供給する第二の材料供給手段とを設け、前記第一の材料供給手段を前記成膜室内に設け、前記第二の材料供給手段を前記成膜室とは別個の真空系とした成膜材料供給室内に設けた真空蒸着装置における成膜材料供給装置。
請求項（抜粋）：
リングハース上に収容した成膜材料を昇華させ、基板上に保護膜を形成する成膜室を備えた真空蒸着装置であって、前記リングハース上に成膜材料を供給する第一の材料供給手段と、前記第一の材料供給手段に成膜材料を供給する第二の材料供給手段とを設け、前記第一の材料供給手段を前記成膜室内に設け、前記第二の材料供給手段を前記成膜室とは別個の真空系とした成膜材料供給室内に設けたことを特徴とする真空蒸着装置における成膜材料供給装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/24 D
, C03C 17/00
4G059AA01
, 4G059AB13
, 4G059AB19
, 4G059AC16
, 4G059AC18
, 4G059EA01
, 4G059EB03
, 4K029CA01
, 4K029DB15
, 4K029DB21
出願人引用 (3件)
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特開昭51-014181
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原料供給装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平3-340955
出願人：レーザー濃縮技術研究組合, 三菱重工業株式会社
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特開平3-173767
審査官引用 (3件)
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特開昭51-014181
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原料供給装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平3-340955
出願人：レーザー濃縮技術研究組合, 三菱重工業株式会社
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特開平3-173767
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