基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲岡耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-081559
公開番号（公開出願番号）：特開平10-275793
出願日： 1997年03月31日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：

【要約】【課題】外気が侵入してきても、当該外気が基板に直接当たるのを防止することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】チャンバ20内の上部には、減圧乾燥処理時にウエハWが収容される遮蔽部100 が配置されている。遮蔽部100 の上端と閉塞状態のカバー120 との間は、ラビリンス機構301 によってシールされている。減圧乾燥処理が開始されると、チャンバ20内には上方から下方に向く気流が生じる。このとき、チャンバ20とカバー120 との間をシールするリップパッキン123 の隙間から外気がチャンバ20内に吸い込まれると、当該外気はラビリンス機構301 によって遮蔽部100 内に侵入するのを阻止され、上記気流に導かれて遮蔽部100 の外側を通って下方にある減圧ポンプ31に吸い込まれる。そのため、遮蔽部100 内に収容されているウエハWに外気が当たることはない。

請求項（抜粋）：

減圧手段により内部を減圧され、基板を収容して処理を施すための減圧処理容器と、この減圧処理容器を開閉可能な蓋体と、上記減圧処理容器が上記蓋体で閉塞された場合に、上記減圧処理容器と上記蓋体との間をシール面にてシールするためのシール部材と、上記シール面の隙間から上記減圧処理容器内に流入する気流が上記減圧処理容器に収容されている基板に直接当たるのを防止するために、上記シール部材と上記基板との間に設けられた遮蔽手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

引用特許：

審査官引用 (1件)

密閉式洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-125137 出願人：日立プラント建設株式会社

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