光ディスク原盤、光ディスク基板及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189491
公開番号（公開出願番号）：特開2003-006944
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】電子線描画装置を用いた光ディスク原盤の作製において、情報信号領域の内周及び外周部の領域においても均一な形状のピットを形成する。【解決手段】情報信号領域23の最内周及び最外周の更に内周側及び外周側に無信号のピット及び溝の無信号領域24,25を情報信号領域と同じトラックピッチで形成する。

請求項（抜粋）：

ピット幅100nm以下のピットによって情報信号に対応するパターンが形成された光ディスク原盤において、前記情報信号に対応したパターンが描画された情報信号領域の内周側及び外周側に無信号情報のパターンが描画されていることを特徴とする光ディスク原盤。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 , G11B 7/24 531 , G11B 7/24 563

FI (3件)：

G11B 7/26 501 , G11B 7/24 531 Z , G11B 7/24 563 D

Fターム (5件)：

5D029PA10 , 5D029WC01 , 5D029WD10 , 5D121BB01 , 5D121BB21

引用特許：

審査官引用 (5件)

記録媒体製造用原盤の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-079665 出願人：ソニー株式会社
反応性イオンエッチングによるパターニング加工物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-004749 出願人：株式会社ニコン
特開昭60-251536

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