特許

J-GLOBAL ID：200903004169482870

ポリシルセスキオキサン及びそのビニル重合体

発明者： 魚谷 信夫 ,  村上 正敏 ,  伊藤 祐司 ,  松井 二三雄
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 菊地 精一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-251196
公開番号（公開出願番号）：特開平8-092374
出願日： 1994年09月19日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【目的】 高シロキサン含有量であってもゲル化が生じることなく製造でき、かつ保存安定性に優れたポリシルセスキオキサン及びビニルポリマーの主鎖及び/又は側鎖に結合され耐久性、保存性に優れたポリシルセスキオキサン構造を有するポリマーの提供。【構成】 一般式(1)【化1】[R1 、R2 はメチル基、ビニル基、アルキル基、フェニル基、水酸基からなり、R3 、R4 、R5 、R6 がH、アルキル基、トリ(炭化水素基)置換シリル基で、炭化水素基は同時にメチル基ではなく、R3 〜R6 のH又はアルキル基の合計が2個未満、nは重合度を表わす。]で表わされ、Mwが500〜100,000であるポリシルセスキオキサン。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】[式中、R1 及びR2 の50〜99.9モル%がメチル基であり、0.1〜25モル%がビニル基又はビニル基を置換基として有する有機基であり、残部が炭素原子数2以上のアルキル基、置換もしくは非置換フェニル基、水酸基又はアルコキシ基であり、R3 、R4 、R5 及びR6 が水素原子、アルキル基又は下記一般式(2)【化2】(式中、R7 、R8 及びR9 は炭素数が1以上の非置換又は置換炭化水素基であり、同時にメチル基ではない)で表わされる基であり、R3 、R4 、R5 及びR6 の水素原子又はアルキル基の合計は平均で2個未満である。nは重合度を表わす。]で表わされ、重合平均分子量が500〜100,000であるポリシルセスキオキサン。

IPC (4件)：

C08G 77/20 NUG ,  C08F299/08 MRY ,  C08G 77/38 NUF ,  C08G 77/442 NUK

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 共重合体樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-049635   出願人：昭和電工株式会社
• ポリオルガノシロキサン及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-326881   出願人：昭和電工株式会社