特許
J-GLOBAL ID：200903010074596577
ポリオルガノシロキサン及びその製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-326881
公開番号（公開出願番号）：特開平8-073593
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：
【要約】【目的】 ゲル化が生じることなく製造でき、かつ保存安定性に優れたポリオルガノシルセスキオキサンを主たる構造とするポリオルガノシロキサンを提供する。【構成】 ポリオルガノシルセスキオキサン構造を構成する繰り返し単位と末端基及び直鎖状の繰り返し単位と末端基からなり、硅素原子に直結した水酸基及びアルコキシ基をエンドキャップ基で置換することによってその個数が一分子当り0以上2未満であり、数平均分子量が500〜100,000であることを特徴とするポリオルガノシロキサン。
請求項（抜粋）：
式(I)で表される繰り返し単位及び式(II)で表されるエンドキャップ基、ならびに【化1】【化2】式(III)で表される末端基、式(IV)で表される末端基及び式(V)で表される繰り返し単位【化3】【化4】【化5】(式中、Rは50〜99モル%がメチル基、1〜40モル%が重合性モノマーと共重合可能または重合体と反応しうる基であり、残余が炭素数が2〜4のアルキル基または置換または非置換のフェニル基を表し、R1 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し(複数のR1 は同一でも異なっていてもよい)、R2は炭素数1〜8のアルキル基または炭素数6〜8のアリール基を表す(複数のR2 は同一でも異なっていてもよい))からなり、硅素原子に直結したOR1 基の一分子当りの平均の個数が0以上2未満であり、数平均分子量が500〜100,000であることを特徴とするポリオルガノシロキサン。
IPC (6件)：
C08G 77/20 NUG
, C08G 77/14 NUB
, C08L 61/20 LNP
, C08L 83/04 LRY
, C09D183/04 PMS
, C08G 18/61 NEM
