特許
J-GLOBAL ID:200903004171684669

バルク貯槽内の清掃装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 足立 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-074153
公開番号(公開出願番号):特開2003-266039
出願日: 2002年03月18日
公開日(公表日): 2003年09月24日
要約:
【要約】【課題】現地でバルク貯槽内を簡便に清掃できる清掃装置を提供する。【解決手段】近年、一般家庭にLPガスを貯留するバルク貯槽を設置して、タンクローリによって供給する形態が普及してきている。本発明は、LPG容器30を接続し先端にスプレーノズル11を備えた洗浄スプレー10をバルク貯槽1の軸心部にスライド可能に挿通して設けている。そして、洗浄スプレー10をスライドさせながらLPガスを噴射させてバルク貯槽1の内壁面を清掃する。噴射されたLPガスは冷却保持されたガス回収容器20で回収する。
請求項(抜粋):
LPガスを貯留するバルク貯槽内の清掃装置であって、直管の先端にスプレーノズルを備え後端をLPガス供給手段に接続された洗浄スプレーをバルク貯槽の軸心部にスライド可能に嵌挿するとともに、冷却保持したガス回収容器をバルク貯槽へ配管接続したことを特徴とするバルク貯槽内の清掃装置。
IPC (2件):
B08B 9/093 ,  F17C 13/00 301
FI (2件):
B08B 9/093 ,  F17C 13/00 301 Z
Fターム (12件):
3B116AA33 ,  3B116BB22 ,  3B116BB42 ,  3B116BB72 ,  3B116BB90 ,  3B116CD22 ,  3B116CD31 ,  3E072AA03 ,  3E072AB12 ,  3E072CA03 ,  3E072DB03 ,  3E072GA30
引用特許:
審査官引用 (3件)

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