特許
J-GLOBAL ID:200903004330294958

反射シート及びそれを用いたリフレクター

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-250354
公開番号(公開出願番号):特開2008-070685
出願日: 2006年09月15日
公開日(公表日): 2008年03月27日
要約:
【課題】打ち抜きや曲げ加工時に表面保護フィルムが浮いたり剥がれたりせず、かつ表面保護フィルムを剥離する際に反射層が剥離しない、優れた反射率を有する反射シートを提供することにある。【解決手段】酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスから選ばれた少なくとも1つを含む金属酸化物層との間の剥離強度が、特定の値を満たす表面保護フィルムを用いることにより、反射層表面の高屈折率層に全く影響することなく、優れた反射率を有する反射シートが得られる【選択図】 なし
請求項(抜粋):
少なくとも高分子フィルム(A)、酸化物を含む下地層(B)、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスから選ばれた少なくとも1つを含む金属酸化物層(C)、及び該金属酸化物層(C)上に設けた表面保護フィルム(D)を有する反射シートの、前記表面保護フィルム(D)と金属酸化物層(C)との間の剥離強度が下記4つの式を全て満足することを特徴とする反射シート。 Fmax≦0.30kN/m F30≦0.10kN/m F0.3≧0.01kN/m F30 IPC (3件):
G02B 5/08 ,  B32B 9/00 ,  G02F 1/133
FI (3件):
G02B5/08 A ,  B32B9/00 A ,  G02F1/1335 520
Fターム (27件):
2H042DA08 ,  2H042DA11 ,  2H042DA17 ,  2H042DA20 ,  2H042DA21 ,  2H042DC02 ,  2H042DC04 ,  2H042DE04 ,  2H091FA16Z ,  2H091FB02 ,  2H091FD15 ,  2H091GA16 ,  2H091LA02 ,  4F100AA17B ,  4F100AA21C ,  4F100AA40C ,  4F100AK01A ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100AT00D ,  4F100AT00E ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100EH66 ,  4F100JK06 ,  4F100JL01 ,  4F100JN06
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る