特許
J-GLOBAL ID：200903004336864870

蒸気噴射ノズル、およびそれを用いた基板洗浄装置

発明者：
坂井 高正

坂井 高正 について

, 
平得 貞雄

平得 貞雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-156152
公開番号（公開出願番号）：特開2001-334180
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：
【要約】【課題】簡単な構成で蒸気を発生し噴射するノズルと、それを用いた基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板Wの回転軸Rを中心として回転させられている基板上面Waに蒸気噴射ノズル21が処理位置でもって配置される。蒸気噴射ノズル21はその本体部211内部に加熱手段と、その本体部211に連設して噴出口213を有する加速管部212より構成される。そして液体導入管214により供給される純水は本体部211内部で加熱沸騰され、加速管部212により高速に加速された水蒸気が基板上面Waに向け噴射されることで、基板が洗浄される。
請求項（抜粋）：
液体を導入する液体導入部と、前記液体導入管により供給された液体を蒸気化する蒸気生成部と、前記蒸気生成部に連設し、蒸気発生部にて発生する蒸気を気中に噴射する加速管部と、を有することを特徴とする蒸気噴射ノズル。
IPC (8件)：
B05B 1/24 ,  B05C 9/10 ,  B05D 3/10 ,  B05D 7/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 645
FI (8件)：
B05B 1/24 ,  B05C 9/10 ,  B05D 3/10 F ,  B05D 7/00 H ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 645 B
Fターム (14件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H090JC19 ,  4D075BB65X ,  4D075BB79X ,  4D075DA06 ,  4D075DC21 ,  4F033AA14 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033HA01 ,  4F042AA06 ,  4F042DA01
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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