特許

J-GLOBAL ID：200903004343079177

周期性パターンのムラ検査方法

発明者： 稲村 崇 ,  郡嶋 政司 ,  谷澤 恵一
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-059183
公開番号（公開出願番号）：特開2006-242759
出願日： 2005年03月03日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：

【課題】高い検出精度を有する周期性パターンのムラ検査方法を提供する。【解決手段】塗工層または描画面を撮像した画像データに対して、注目画素(X,Y)について、αを1からn1、βを1からn2までの自然数とし、注目画素の周辺画素(X+α,Y+β)の輝度情報の階調値を輝度値としたときに、該周辺画素(X+α,Y+β)の輝度値をそれぞれ足し合わせた加算値から注目画素の周辺画素(X-α,Y-β)の輝度値をそれぞれ足し合わせた加算値をそれぞれ引いた減算値を注目画素の値と置き換えた構成の周辺強調フィルタを用いてコンボリューション演算を行い、画像データを修正画像データとする工程(a)と、修正画像データにある一定値を加算し、該加算値を注目画素の新たな画像データとする工程(b)と、工程(a),(b)で撮像した画像データの画素全てに対して順次行う工程(c)とを有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

矩形基板上の塗工層の塗布ムラ、またはフォトマスクの描画ムラを検査するための検査方法であって、 (a)塗工層、または描画面を撮像し、撮像した画像データに対して、注目画素(X,Y)について、αを1からn1までの自然数とし、βを1からn2までの自然数とし、前記注目画素(X,Y)の周辺画素(X+α,Y+β)の輝度情報の階調値を輝度値としたときに、該周辺画素(X+α,Y+β)の輝度値をそれぞれ足し合わせた加算値から前記注目画素(X,Y)の周辺画素(X-α,Y-β)の輝度値を足し合わせた加算値をそれぞれ引いた減算値を前記注目画素(X,Y)の値と置き換えた構成の周辺強調フィルタを用いてコンボリューション演算を行い、前記画像データを修正画像データとする工程と、 (b)前記修正画像データにある一定値(標準輝度値)を加算し、該加算値を注目画素の新たな画像データとする工程と、 (c)前記(a),(b)の工程を撮像した画像データの画素全てに対して順次行う工程と、を有することを特徴とする周期性パターンのムラ検査方法。

IPC (6件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  G06T 1/00 ,  G06T 5/20

FI (6件)：

G01N21/956 Z ,  G01B11/30 A ,  G01N21/88 Z ,  G03F1/08 S ,  G06T1/00 305A ,  G06T5/20 B

Fターム (51件)：

2F065AA12 ,  2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065CC18 ,  2F065FF48 ,  2F065FF51 ,  2F065FF67 ,  2F065HH03 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL22 ,  2F065LL59 ,  2F065LL63 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ07 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ34 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA01 ,  2G051BB01 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051ED08 ,  2G051ED14 ,  2H095BD02 ,  2H095BD21 ,  2H095BD24 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE03 ,  5B057CE06 ,  5B057CE08

引用特許：

出願人引用 (3件)

• パターン欠陥検査方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-076199   出願人：株式会社東芝
• 光学部材検査装置及び光学部材検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-172714   出願人：旭光学工業株式会社
• 着色膜の検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-314258   出願人：大日本印刷株式会社

審査官引用 (5件)

• 画面の線欠陥検出方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-007838   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 画面の欠陥検出方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-085301   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 画像処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-169270   出願人：株式会社ピーエフユー
• 文字エッジ検出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-169639   出願人：松下電器産業株式会社
• 絵柄検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-318801   出願人：凸版印刷株式会社