特許
J-GLOBAL ID:200903004352378705

反応装置及びその製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-550594
公開番号(公開出願番号):特表2002-516173
出願日: 1999年05月05日
公開日(公表日): 2002年06月04日
要約:
【要約】珪素ディスク(12)と接続しているケーシング(11)を含む反応装置。該珪素ディスク(12)は、細孔(13)を有しており、該細孔が、珪素ディスク(12)の第一の主要平面(14)から珪素ディスク(12)の内部に、有利に珪素ディスク(12)の第二の主要平面(15)の中にまで延在している。触媒層(16)が、少なくとも部分的に細孔の表面を覆っている。
請求項(抜粋):
反応装置において、- ケーシング(11)及び珪素ディスク(12)を備え、- 該珪素ディスク(12)が、ケーシング(11)の部材とモノリシックに接続しており、- 珪素ディスク(12)が、細孔(13)を有し、該細孔が、珪素ディスク(12)の第一の主要平面(14)から珪素ディスク(12)の内部にまで延在しており、- 細孔(13)の表面を少なくとも部分的に覆う触媒層(16)を備え、- ケーシング(11)が、第一の供給管(17)を備える、反応装置。
IPC (4件):
B01J 19/00 321 ,  B01J 37/00 ,  G01N 37/00 101 ,  C12M 1/00
FI (4件):
B01J 19/00 321 ,  B01J 37/00 K ,  G01N 37/00 101 ,  C12M 1/00 A
Fターム (46件):
4B029AA23 ,  4B029AA27 ,  4B029BB20 ,  4B029CC01 ,  4G069AA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA18 ,  4G069BB02A ,  4G069BB11A ,  4G069BB20A ,  4G069BC33A ,  4G069BC33B ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069BD03A ,  4G069BD05A ,  4G069EA11 ,  4G069EB04 ,  4G069EB15Y ,  4G069EB17X ,  4G069EB17Y ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB03 ,  4G069FB48 ,  4G069FB58 ,  4G075AA22 ,  4G075AA30 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EE12 ,  4G075FA01 ,  4G075FB02
引用特許:
出願人引用 (1件)

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