特許
J-GLOBAL ID:200903004352378705
反応装置及びその製造法
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-550594
公開番号(公開出願番号):特表2002-516173
出願日: 1999年05月05日
公開日(公表日): 2002年06月04日
要約:
【要約】珪素ディスク(12)と接続しているケーシング(11)を含む反応装置。該珪素ディスク(12)は、細孔(13)を有しており、該細孔が、珪素ディスク(12)の第一の主要平面(14)から珪素ディスク(12)の内部に、有利に珪素ディスク(12)の第二の主要平面(15)の中にまで延在している。触媒層(16)が、少なくとも部分的に細孔の表面を覆っている。
請求項(抜粋):
反応装置において、- ケーシング(11)及び珪素ディスク(12)を備え、- 該珪素ディスク(12)が、ケーシング(11)の部材とモノリシックに接続しており、- 珪素ディスク(12)が、細孔(13)を有し、該細孔が、珪素ディスク(12)の第一の主要平面(14)から珪素ディスク(12)の内部にまで延在しており、- 細孔(13)の表面を少なくとも部分的に覆う触媒層(16)を備え、- ケーシング(11)が、第一の供給管(17)を備える、反応装置。
IPC (4件):
B01J 19/00 321
, B01J 37/00
, G01N 37/00 101
, C12M 1/00
FI (4件):
B01J 19/00 321
, B01J 37/00 K
, G01N 37/00 101
, C12M 1/00 A
Fターム (46件):
4B029AA23
, 4B029AA27
, 4B029BB20
, 4B029CC01
, 4G069AA01
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA02A
, 4G069BA02B
, 4G069BA18
, 4G069BB02A
, 4G069BB11A
, 4G069BB20A
, 4G069BC33A
, 4G069BC33B
, 4G069BC71A
, 4G069BC71B
, 4G069BC72A
, 4G069BC72B
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069BD03A
, 4G069BD05A
, 4G069EA11
, 4G069EB04
, 4G069EB15Y
, 4G069EB17X
, 4G069EB17Y
, 4G069FA01
, 4G069FA02
, 4G069FB03
, 4G069FB48
, 4G069FB58
, 4G075AA22
, 4G075AA30
, 4G075BA01
, 4G075BA05
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075BD14
, 4G075CA54
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EE12
, 4G075FA01
, 4G075FB02
引用特許:
前のページに戻る