特許
J-GLOBAL ID：200903004360975550
化粧料におけるケイ皮酸またはその誘導体の用途
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
園田 吉隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-359740
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246332
出願日： 1998年12月17日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：
【要約】【課題】 皮膚の脂質量の減少に関連した突張感や乾燥肌のレベルを低減させる薬剤及びそれらを含有する化粧料を提供する。【解決手段】 ケイ皮酸又はその誘導体を薬剤として化粧料等に使用するか、化粧品的に許容可能な媒体中に含有せしめて化粧料とする。
請求項（抜粋）：
化粧料に用いられ、有効量のケイ皮酸又はその誘導体の少なくとも1つからなる、皮膚の障壁機能を補強するための薬剤。
IPC (4件)：
A61K 7/00
, A61K 7/48
, A61K 31/00 617
, A61K 31/19
A61K 7/00 C
, A61K 7/00 W
, A61K 7/48
, A61K 31/00 617
, A61K 31/19
