マルチビーム走査装置の光源装置・マルチビーム走査装置および画像形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-290905
公開番号（公開出願番号）：特開平11-125779
出願日： 1997年10月23日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】マルチビーム走査装置の光源装置において、画素密度切り換えに伴う光源ユニットの回転のための時間を有効に短縮化する。【解決手段】複数のビームを射出させる光源ユニットを基準軸の回りに回転させることにより、同時に光走査される複数ラインの間隔を変化させることにより光書込みにおける画素密度を切り換えるようにした光源装置であって、基準軸の回りの回転に対する光源ユニットの基準態位を検出する基準態位検出手段を有し、基準態位を基準として定まる、異なる画素密度に対応する光源ユニットの動作態位を動作態位:A,動作態位:Bとし、光源ユニットの待機態位を待機態位:aとするとき、待機態位:aを、互いに最も離れた動作態位:AとBの間に設定し、光源ユニットを回転させる回転手段を制御する制御手段が、所望の光走査終了後に、光源ユニットを待機態位:aに戻すように回転手段を制御する。

請求項（抜粋）：

独立に点滅を制御される複数の発光源からのビームをカップリングして複数のビームを得、これら複数のビームを共通の光偏向器により偏向させ、共通の結像光学系により被走査面上に、副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光させ、複数ラインを同時に光走査するマルチビーム走査装置において、複数の発光源からのビームをカップリングして複数のビームを射出させる光源ユニットを基準軸の回りに回転させることにより、同時に光走査される複数ラインの間隔を変化させることにより光書込みにおける画素密度を切り換えるようにした光源装置であって、基準軸の回りの回転に対する光源ユニットの基準態位を検出する基準態位検出手段を有し、上記基準態位を基準として定まる、異なる画素密度に対応する光源ユニットの動作態位を動作態位:A,動作態位:B,..動作態位:Nとし、上記光源ユニットの待機態位を待機態位:aとするとき、待機態位:aを、互いに最も離れた動作態位:AとNの間に設定し、上記光源ユニットを回転させる回転手段を制御する制御手段が、所望の光走査終了後に、上記光源ユニットを待機態位に戻すように上記回転手段を制御することを特徴とするマルチビーム走査装置の光源装置。

IPC (2件)：

G02B 26/10 , G02B 26/10 102

FI (2件)：

G02B 26/10 B , G02B 26/10 102

引用特許：

審査官引用 (5件)

マルチビーム画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-074274 出願人：株式会社リコー
光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-193137 出願人：キヤノン株式会社
特開昭61-024476

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