特許

J-GLOBAL ID：200903004520701894

透明薄膜の成膜方法

発明者： 岩淵 芳典 ,  草野 行弘
出願人/特許権者： 株式会社ブリヂストン
代理人 (1件)： 本多 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-194969
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013216
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 薄膜の品質に問題を生じたりターゲットの損傷を招くことなく透明性と成膜速度との両立を図り、透明薄膜を安定成膜することのできる透明薄膜の成膜方法を提供する。【解決手段】 反応性ガスの使用によるスパッタリング法にて透明薄膜を成膜する方法において、反応性ガスの濃度変化に伴い成膜形態に金属モードと化合物モードとの間で移行を生ずる遷移領域が異なる2種以上の元素を含む化合物および/または混合物をターゲットとして用いる。

請求項（抜粋）：

反応性ガスの使用によるスパッタリング法にて透明薄膜を成膜する方法において、反応性ガスの濃度変化に伴い成膜形態に金属モードと化合物モードとの間で移行を生ずる遷移領域が異なる2種以上の元素を含む化合物および/または混合物をターゲットとして用いることを特徴とする透明薄膜の成膜方法。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  G02B 1/10

FI (3件)：

C23C 14/34 M ,  C23C 14/34 A ,  G02B 1/10 Z

Fターム (16件)：

2K009BB01 ,  2K009BB02 ,  2K009BB11 ,  2K009BB24 ,  2K009CC02 ,  2K009CC14 ,  2K009DD04 ,  2K009EE00 ,  2K009EE03 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BC08 ,  4K029BD00 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09

引用特許：

審査官引用 (3件)

• スパッタ皮膜の屈折率コントロール方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-290048   出願人：株式会社ブリヂストン
• 特開昭63-113507
  
• 特開平4-260637