特許
J-GLOBAL ID:200903004537688190
シクロヘキサンジメタノールの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-163377
公開番号(公開出願番号):特開2000-001447
出願日: 1998年06月11日
公開日(公表日): 2000年01月07日
要約:
【要約】【目的】 生産性に優れ、しかも環境面においても安全で、工業的に実用性のあるCHDMの製造プロセスを確立する。【構成】 シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルを水素化してシクロヘキサンジメタノールを得るに際し、水素化を銅-亜鉛-シリカ成型触媒の存在下で行うことを特徴とする。
請求項(抜粋):
シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルを水素化してシクロヘキサンジメタノールを得るに際し、水素化を銅-亜鉛-シリカ成型触媒の存在下で行うことを特徴とするシクロヘキサンジメタノールの製造方法。
IPC (4件):
C07C 31/27
, B01J 23/80
, C07C 29/149
, C07B 61/00 300
FI (4件):
C07C 31/27
, B01J 23/80 X
, C07C 29/149
, C07B 61/00 300
Fターム (11件):
4H006AA02
, 4H006AC41
, 4H006BA05
, 4H006BA07
, 4H006BA30
, 4H006BA33
, 4H006BA85
, 4H006FC22
, 4H006FE11
, 4H039CA60
, 4H039CB20
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特公昭41-003621
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特開昭54-157789
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1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-208539
出願人:三菱化学株式会社
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特開平2-157044
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審査官引用 (2件)
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特公昭41-003621
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特開昭54-157789
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