特許

J-GLOBAL ID：200903009436352410

1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造方法

発明者： 村井 信行 ,  岩阪 洋司 ,  村井 浩也 ,  竹内 健
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-208539
公開番号（公開出願番号）：特開平10-045645
出願日： 1996年08月07日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【課題】 テレフタル酸ジアルキルエステルの二段水素化による1,4-シクロヘキサンジメタノール(CHDM)の製造において、第二段目の水素化反応をより温和な条件下で行うことのできるCHDMの製造方法の提供。【解決手段】 テレフタル酸ジアルキルエステルを水素化して1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造する方法において、1)テレフタル酸ジアルキルエステルを貴金属系核水素化触媒を用いて水素添加して1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルエステルを得る第一工程、及び、2)第一工程で得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルエステルを銅-亜鉛-アルミナ系触媒を用いて水素化分解を行い、1,4-シクロヘキサンジメタノールを得る第二工程、の二つの工程を経由する。

請求項（抜粋）：

テレフタル酸ジアルキルエステルを水素化して1,4-シクロヘキサンジメタノールを製造する方法において、1)テレフタル酸ジアルキルエステルを貴金属系核水素化触媒を用いて水素添加して1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルエステルを得る第一工程、及び2)第一工程で得られた1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルエステルを銅-亜鉛-アルミナ系触媒を用いて水素化分解を行い、1,4-シクロヘキサンジメタノールを得る第二工程、の二つの工程を経由することを特徴とする1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造方法。

IPC (7件)：

C07C 31/27 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/80 ,  C07C 29/136 ,  C07C 67/303 ,  C07C 69/75 ,  C07B 61/00 300

FI (7件)：

C07C 31/27 ,  B01J 23/46 301 Z ,  B01J 23/80 Z ,  C07C 29/136 ,  C07C 67/303 ,  C07C 69/75 Z ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 1,4-シクロヘキサンジメタノールの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-357871   出願人：東和化成工業株式会社