特許
J-GLOBAL ID:200903004599473433

高次高調波発生・分光システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 清水 守
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-144747
公開番号(公開出願番号):特開2001-324477
出願日: 2000年05月17日
公開日(公表日): 2001年11月22日
要約:
【要約】【課題】 特定の次数の高次高調波だけを取り出し、パルスレーザー光によって発生する極端紫外・真空紫外光による分光計測を可能にする高次高調波発生・分光システムを提供する。【解決手段】 超短パルス極端紫外・真空紫外レーザー分光システムにおいて、入射する超短パルスレーザー光の高次高調波のうち、極端紫外・真空紫外領域(5〜40nm)のものについて、それらを時間広がりをできるだけ抑えて集光し、原子・分子系に作用させることによって、発生するイオンを検出するとともに、発生している高次高調波を分光することによって、どの高次高調波がどれだけの強度で発生しているかを同時に計測する。
請求項(抜粋):
高次高調波発生・分光システムにおいて、入射する超短パルスレーザー光の高次高調波のうち、極端紫外・真空紫外領域のものについて、それらを時間広がりをできるだけ抑えて集光し、原子・分子系に作用させることによって、発生するイオンを検出するとともに、発生している高次高調波を分光することによって、どの高次高調波がどれだけの強度で発生しているかを同時に計測することを特徴とする高次高調波発生・分光システム。
IPC (5件):
G01N 27/62 ,  G01J 3/18 ,  G01J 3/36 ,  G01N 21/01 ,  G02F 1/37
FI (5件):
G01N 27/62 K ,  G01J 3/18 ,  G01J 3/36 ,  G01N 21/01 D ,  G02F 1/37
Fターム (23件):
2G020CA01 ,  2G020CB23 ,  2G020CB44 ,  2G020CC05 ,  2G020CD04 ,  2G020CD24 ,  2G059AA05 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059HH03 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2K002AB12 ,  2K002BA02 ,  2K002CA01 ,  2K002GA10 ,  2K002HA13
引用特許:
審査官引用 (2件)

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