特許
J-GLOBAL ID：200903004632705353
オレフィン系エポキシドの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-059352
公開番号（公開出願番号）：特開平11-292864
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：
【要約】【課題】 チタンシリカライトの存在下のエポキシ化において高い選択性を有する、オレフィン系エポキシドの製造方法の提供。【解決手段】 少なくとも1種のオレフィンと、過酸化水素またはその反応条件下で過酸化水素を生成できる化合物とを、窒素原子上で置換されたアミド基を含む有機分子で処理されたチタンシリカライトから成る触媒の存在において反応させることからなる、エポキシドの製造方法。
請求項（抜粋）：
少なくとも1種のオレフィンと、過酸化水素またはその反応条件下で過酸化水素を生成できる化合物とを、有機分子で処理されたチタンシリカライトから成る触媒の存在において反応させることからなり、この有機分子が、下記一般式を有する窒素原子上で置換されたアミド基を含むものであることを特徴とする、エポキシドの製造方法。式中、R1は水素原子または1〜20個の炭素原子を有するアルキル基、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたはアルキルアリール基、7〜20個の炭素原子を有するシクロアルキル基、N、OおよびSから選択される同一であるか、または異なる1またはそれ以上のヘテロ原子を有するヘテロ環式基であり、R2およびR3は、同一であるか、または異なり、1〜20個の炭素原子を有するアルキル基、6〜20個の炭素原子を有するアリールまたはアルキルアリール基、7〜20個の炭素原子を有するシクロアルキル基、N、OおよびSから選択される同一であるか、または異なる1またはそれ以上のヘテロ原子を有するヘテロ環式基であり、さらに、R1、R2およびR3基は、一緒になって、飽和もしくは不飽和の環を形成することができ、そしてハロゲン原子、ニトロ、ニトリル、硫酸基およびそのエステル、リン酸基およびそのエステル、カルボニル、ヒドロキシル、カルボキシル、チオール、アミンおよびエーテルの基を含有することができる。
IPC (4件)：
C07D301/12
, B01J 29/89
, C07D303/04
, C07B 61/00 300
C07D301/12
, B01J 29/89 X
, C07D303/04
, C07B 61/00 300
