特許
J-GLOBAL ID：200903004672603820

露光装置及び露光方法

発明者：
前田 武文

前田 武文 について


出願人/特許権者：
日本精工株式会社

日本精工株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-152360
公開番号（公開出願番号）：特開2007-322706
出願日： 2006年05月31日
公開日（公表日）： 2007年12月13日
要約：
【課題】基板の露光転写と基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板の搬入出時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】露光装置PEは、マスクMを保持するマスクステージ10と、マスクステージ10の下方に位置するメインベッド19と、メインベッド19の側方に配設される第1サブベッド15及び第2サブベッド16と、メインベッド19と第1及び第2サブベッド15、16間で移動可能な第1及び第2基板ステージ11.12と、メインベッド19上に位置する第1及び第2基板ステージ11,12に保持された基板Wに、パターン露光用の光をマスクMを介して照射する照射装置13と、第1サブベッド21と第2サブベッド22に生じた振動がメインベッド19に伝達されるのを防止する防振機構50,51と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マスクを保持するマスクステージと、 前記マスクステージの下方に位置するメインベッドと、 前記メインベッドの側方に配置される第1サブベッド及び第2サブベッドと、 前記メインベッドと前記第1サブベッド間で移動可能な第1基板ステージと、 前記メインベッドと前記第2サブベッド間で移動可能な第2基板ステージと、 前記メインベッド上に位置する前記第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、 前記第1サブベッドと前記第2サブベッドに生じた振動が前記メインベッドに伝達されるのを防止する防振機構と、 を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/20 501 ,  H01L21/30 503A ,  H01L21/30 509
Fターム (5件)：
2H097DB07 ,  2H097DB20 ,  2H097GA45 ,  5F046BA02 ,  5F046CC01
引用特許：
出願人引用 (2件)

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