ウェハ検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奈良武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-040460
公開番号（公開出願番号）：特開2004-253492
出願日： 2003年02月19日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】ウェハの取り付け誤差やデバイスチップの製作誤差があっても、デバイスチップの観察作業を簡単に、しかも短時間で行う。【解決手段】デバイスチップが形成されたウェハ1がセットされるワークステージ2と、ワークステージ2をXYZの三次元方向に移動させる第1の移動手段3,4と、ワークステージ2を水平に回転させる第1の回転手段5と、デバイスチップにプロービングするプローブ6を備えたプロービングユニット11と、第1の移動手段3,4及びプロービングユニット11を一体としてXYZの三次元方向に移動させる第2の移動手段7,8と、ウェハ1上のデバイスチップを観察するための顕微鏡12と、デバイスチップの観察位置を補正する位置補正手段10とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

デバイスチップが形成されたウェハがセットされるワークステージと、ワークステージをXYZの三次元方向に移動させる第1の移動手段と、ワークステージを水平に回転させる第1の回転手段と、デバイスチップにプロービングするプローブを備えたプロービングユニットと、前記第1の移動手段及びプロービングユニットを一体としてXYZの三次元方向に移動させる第2の移動手段と、ウェハ上のデバイスチップを観察するための顕微鏡と、デバイスチップの観察位置を補正する位置補正手段とを備えていることを特徴とするウェハ検査装置。

IPC (3件)：

H01L21/66 , G01R31/28 , H01L21/68

FI (3件)：

H01L21/66 B , H01L21/68 F , G01R31/28 K

Fターム (19件)：

2G132AA00 , 2G132AE02 , 2G132AE22 , 2G132AF02 , 2G132AF06 , 4M106AA01 , 4M106BA01 , 4M106DD13 , 4M106DJ07 , 5F031CA02 , 5F031HA13 , 5F031JA04 , 5F031JA28 , 5F031JA32 , 5F031JA40 , 5F031KA06 , 5F031KA07 , 5F031KA08 , 5F031MA33

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-235139
不良素子へのマーキング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-124005 出願人：東京エレクトロン株式会社
ステージ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-302695 出願人：株式会社ニコン

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