特許
J-GLOBAL ID：200903004748098594
露光方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-118613
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031036
出願日： 1999年04月26日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【課題】 周期パターンの露光と通常のパターン露光の2重露光によって任意形状の高解像度のパターンが得られる露光方法及び露光装置を得ること。【解決手段】 被露光基板上に周期パターン露光とこれとは異なるパターン露光の二重露光を行う露光方法において、周期パターンの光強度分布の最大値をI0 、最小値をI1 とし、パターン露光の光強度分布の最小線幅をもつパターンの中心位置の強度値をb,最小線幅をもつパターンともう一方の最小線幅をもつパターンの中心位置の強度値をcとし、該被露光基板上に設けたレジストの感光しきい値をIc 、周期パターン露光とパターン露光の光量比1:kを適切に設定したとき、該レジストがネガ型の場合とポジ型の場合、最適な光強度分布となる周期パターン露光と、パターン露光、そして光量比kとを設定したこと。
請求項（抜粋）：
被露光基板上に周期パターン露光とこれとは異なるパターン露光の二重露光を行う露光方法において、周期パターンの光強度分布の最大値をI<SB>0</SB>、最小値をI<SB>1</SB>とし、パターン露光の光強度分布の最小線幅をもつパターンの中心位置の強度値をb,最小線幅をもつパターンともう一方の最小線幅をもつパターンの中心位置の強度値をcとし、該被露光基板上に設けたレジストの感光しきい値をI<SB>c</SB>、周期パターン露光とパターン露光の光量比1:kを適切に設定したとき、該レジストがネガ型の場合、k×b+I<SB>0</SB>>I<SB>c</SB>k×c+I<SB>1</SB><I<SB>c</SB>該レジストがポジ型の場合、k×b+I<SB>1</SB><I<SB>c</SB>k×c+I<SB>0</SB>>I<SB>c</SB>となるような、光強度分布となる周期パターン露光と、パターン露光、そして光量比kとを設定したことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 514 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 D
