特許

J-GLOBAL ID：200903004774544578

改質器

発明者： 桑原 武 ,  吉野 靖 ,  藤島 史郎 ,  小林 茂樹 ,  諸石 拓也 ,  小野 純
出願人/特許権者： 株式会社ティラド
代理人 (1件)： 窪田 卓美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-320643
公開番号（公開出願番号）：特開2007-126331
出願日： 2005年11月04日
公開日（公表日）： 2007年05月24日
要約：

【課題】 原料ガスを水蒸気改質して水素リッチな改質ガスを生成する改質器において、生成する改質ガスの排出部の構造を簡単化すると共に、触媒粒子の流出を抑制する。【解決手段】 改質器1における改質ガスの排出部12に存在するシフト触媒層6の下部に改質ガスの排出管20が延長され、その延長部の下側に、改質ガスを排出管20内に流入させるためのスリット21または複数の孔22が形成される。スリット21若しくは複数の孔22の大きさ、または前記排出管20の延長部下側と前記排出部12の下面12aとの間隙は、前記シフト触媒層6に充填された触媒粒子が前記改質ガスに伴って前記排出管20内に流入しない範囲に設定される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

原料ガスを水蒸気改質して水素リッチな改質ガスを生成する改質器1において、 前記改質ガスの排出部12に存在する触媒層下部に改質ガスの排出管20が延長され、前記延長部の下側に、改質ガスを排出管20内に流入させるためのスリット20aまたは複数の孔20bが形成され、 前記スリット20a若しくは複数の孔20bの大きさ、または前記排出管20の延長部の下面と前記排出部の下面12aとの間隙は、前記触媒層に充填された触媒粒子が前記改質ガスに伴って前記排出管20内に流入しない範囲に設定されていることを特徴とする改質器。

IPC (1件)：

C01B 3/38

FI (1件)：

C01B3/38

Fターム (4件)：

4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB23 ,  4G140EB32

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 自己酸化内部加熱型改質装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-058483   出願人：株式会社日本ケミカル・プラント・コンサルタント
• 自己酸化内部加熱型水蒸気改質システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-384390   出願人：東洋ラジエーター株式会社

審査官引用 (5件)

• 改質装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-008027   出願人：株式会社東芝
• 水素分離装置、水素分離壁およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-126570   出願人：松下電器産業株式会社
• 一酸化炭素変成器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-317798   出願人：東京瓦斯株式会社, 三菱重工業株式会社
• 自己酸化内部加熱型改質装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-058483   出願人：株式会社日本ケミカル・プラント・コンサルタント
• 自己酸化内部加熱型水蒸気改質システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-384390   出願人：東洋ラジエーター株式会社