特許

J-GLOBAL ID：200903025596259250

水素分離装置、水素分離壁およびその製造方法

発明者： 羽藤 一仁 ,  新倉 順二 ,  安本 栄一 ,  蒲生 孝治
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 東島 隆治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-126570
公開番号（公開出願番号）：特開平8-318142
出願日： 1995年05月25日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】 炭化水素系の燃料を改質したガスを原料とし、効率よく水素を分離する水素分離装置を提供する。【構成】 炭化水素系燃料を改質した少なくとも水素を含む原料ガスを供給する高圧側、精製された水素ガスを含むガスを得る低圧側、チューブ状多孔質セラミクス基体の外面と内面の少なくとも一方に被覆されたパラジウムを含む金属または合金皮膜からなり前記高圧側と低圧側とを隔離する水素分離壁、前記高圧側の水素分離壁近傍に設置された一酸化炭素変成触媒、および前記水素分離壁と前記一酸化炭素変成触媒を100°C以上400°C以下の温度に加熱するヒーターを具備する水素分離装置。

請求項（抜粋）：

炭化水素系燃料を改質した少なくとも水素を含む原料ガスを供給する高圧側、精製された水素ガスを含むガスを得る低圧側、チューブ状多孔質セラミクス基体の外面と内面の少なくとも一方に被覆されたパラジウムを含む金属または合金皮膜からなり前記高圧側と低圧側とを隔離する水素分離壁、前記高圧側の水素分離壁近傍に設置された一酸化炭素変成触媒、および前記水素分離壁と前記一酸化炭素変成触媒を100°C以上400°C以下の温度に加熱するヒーターを具備することを特徴とする水素分離装置。

IPC (4件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/04 ,  C01B 3/50

FI (4件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/04 ,  C01B 3/50

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 水素製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-252706   出願人：東京瓦斯株式会社, 三菱重工業株式会社
• 特開平4-325402
  
• 水素製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-264601   出願人：三井造船株式会社
• 水素分離膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-244643   出願人：三菱重工業株式会社