特許

J-GLOBAL ID：200903004809237312

半導体装置

発明者： 小倉 常雄 ,  山口 正一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-270367
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256550
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、低オン電圧と高ターンオフ能力との同時の実現を図る。【解決手段】 高抵抗のn型ベース層2と、n型ベース層2の一方の表面上に形成されたn型ドレイン層1と、n型ベース層2の他方の表面に選択的に形成された各p型ベース層3と、各p型ベース層3の表面に選択的に形成された各n型ソース層4と、n型ベース層2の他方の表面で各n型ソース層4と各p型ベース層3とは異なる領域に選択的に形成された各p型インジェクション層20と、各n型ソース層4の表面からp型ベース層3を貫通してn型ベース層2の途中の深さまで選択的に形成された溝5と、各溝5内に絶縁膜6を介して埋込み形成された第1のゲート電極7と、n型ドレイン層1上に形成されたドレイン電極8と、n型ソース層4上に形成されたソース電極9と、p型インジェクション層20上に形成された第2のゲート電極21とを備えた半導体装置。

請求項（抜粋）：

高抵抗の第1導電型ベース層と、前記第1導電型ベース層の一方の表面に形成された第1導電型ドレイン層と、前記第1導電型ベース層の他方の表面に形成された第1導電型ソース層と、前記第1導電型ベース層の他方の表面で前記第1導電型ソース層とは異なる領域に形成された第2導電型インジェクション層と、前記第1導電型ベース層の他方の表面の前記第1導電型ソース層と前記第2導電型インジェクション層との間に形成された障壁層と、前記第1導電型ドレイン層に形成された第1の主電極と、前記第1導電型ソース層に形成された第2の主電極と、前記第2導電型インジェクション層に形成されたゲート電極とを備えたことを特徴とする半導体装置。

FI (4件)：

H01L 29/78 655 A ,  H01L 29/78 652 F ,  H01L 29/78 653 C ,  H01L 29/78 654 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-064882   出願人：日産自動車株式会社
• 特開昭61-180472
  
• 電力変換装置とその制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-198161   出願人：株式会社日立製作所