特許
J-GLOBAL ID：200903004812047958

細胞培養方法及び細胞培養装置

発明者：
芳賀 良一

芳賀 良一 について

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渋谷 啓介

渋谷 啓介 について

, 
難波 勝

難波 勝 について


出願人/特許権者：
株式会社日立プラントテクノロジー

株式会社日立プラントテクノロジー について


代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-016486
公開番号（公開出願番号）：特開2008-182899
出願日： 2007年01月26日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：
【課題】培養細胞に損傷を与えることなく、細胞培養時に生じる泡沫層を効果的に破壊することができ、その結果、目的物質の生産性を向上させる。【解決手段】細胞を培養するための培養液を充填することができる培養槽と、上記培養槽内部に充填された培養液に気泡を供給する第1の散気手段と、上記第1の散気手段により供給される気泡より大径の気泡を、上記培養槽内部に充填された培養液に供給する第2の散気手段と、少なくとも、上記第2の散気手段による気泡の供給を制御する制御手段とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
散気手段によって培養液中に気泡を供給し、培養液中に酸素を供給しながら細胞培養工程を行う細胞培養方法において、 上記培養液には、上記気泡より大径の気泡を供給することを特徴とする細胞培養方法。
IPC (2件)：
C12N 1/00 ,  C12M 1/00
FI (2件)：
C12N1/00 C ,  C12M1/00 D
Fターム (15件)：
4B029AA02 ,  4B029BB02 ,  4B029BB06 ,  4B029BB07 ,  4B029BB11 ,  4B029BB12 ,  4B029CC01 ,  4B029DB01 ,  4B029DB11 ,  4B065AA01X ,  4B065AA57X ,  4B065AA83X ,  4B065AA87X ,  4B065BC05 ,  4B065BC08
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)

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