特許
J-GLOBAL ID：200903004830125028

レジスト組成物及びその塗膜

発明者：
高橋 秀幸

高橋 秀幸 について

, 
石関 健二

石関 健二 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-131488
公開番号（公開出願番号）：特開2005-315984
出願日： 2004年04月27日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】撥水撥油性に優れ、外観が良好であり、基材との密着が高い塗膜を形成することができ、さらにはアルカリ現像性が良好で微細なパターン形成が可能なレジスト組成物及びその塗膜の提供。【解決手段】炭素数4〜6のパーフルオロアルキル基を有し、フッ素原子含有率が7〜35質量%である含フッ素樹脂(A)及び波長100〜600nmの光に反応する感光性成分を含むレジスト組成物であって、組成物の全固形分に対する含フッ素樹脂(A)の割合は0.1〜30質量%であることを特徴とするレジスト組成物及びその塗膜。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式1で表される単量体から形成される単量体単位を有し、フッ素原子含有率が7〜35質量%である含フッ素樹脂(A)及び波長100〜600nmの光に反応する感光性成分を含むレジスト組成物であって、組成物の全固形分に対する含フッ素樹脂(A)の割合は0.1〜30質量%であることを特徴とするレジスト組成物。 CH2=CH(R1)COOXRf ・・・式1 式中、R1は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Xは炭素数1〜6の2価のフッ素原子を含まない有機基を示し、Rfは、炭素数4〜6のパーフルオロアルキル基を示す。
IPC (4件)：
G03F7/032 ,  C08F20/24 ,  G02B5/20 ,  G03F7/038
FI (4件)：
G03F7/032 ,  C08F20/24 ,  G02B5/20 101 ,  G03F7/038 601
Fターム (36件)：
2H025AA00 ,  2H025AA14 ,  2H025AB13 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025BC83 ,  2H025BE00 ,  2H025CA00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB23 ,  2H048BB42 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BA12P ,  4J100BA28P ,  4J100BA58P ,  4J100BB18P ,  4J100CA01 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • フォトレジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-210641   出願人：大日本インキ化学工業株式会社
  • コーティング用組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-077846   出願人：大日本インキ化学工業株式会社
審査官引用 (2件)

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