特許
J-GLOBAL ID:200903004832144178

インダクタ素子、トランス素子およびバラン素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 滝本 智之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-148804
公開番号(公開出願番号):特開平9-330816
出願日: 1996年06月11日
公開日(公表日): 1997年12月22日
要約:
【要約】【課題】 小さな面積で大きなインダクタンス値が得られるようにする。【解決手段】 多層基板の1つの導体層に形成されたスパイラル形状の第1のコイルパターン5と、他の導体層に形成された第1のコイルパターン5に相対し、かつ反対巻きの第2のコイルパターン6のそれぞれの内側の端をスルーホール7で接続して構成する。
請求項(抜粋):
2層以上の導体層をもつ多層基板の第1の導体層にスパイラル形状の第1のコイルパターンを形成し、前記第1の導体層と対面する第2の導体層に前記第1のコイルパターンと反対巻きのスパイラル形状の第2のコイルパターンを形成し、前記第1のコイルパターンの内側の端と前記第2のコイルパターンの内側の端をスルーホールで接続して構成したインダクタ素子。
IPC (2件):
H01F 17/00 ,  H01F 19/00
FI (3件):
H01F 17/00 B ,  H01F 17/00 D ,  H01F 19/00 Z
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開平4-137503
  • 薄膜トランス装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-244786   出願人:富士電機株式会社
審査官引用 (2件)
  • 特開平4-137503
  • 薄膜トランス装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-244786   出願人:富士電機株式会社

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