特許

J-GLOBAL ID：200903004832956989

イオンビーム出射装置及びイオンビーム出射方法

発明者： 平本 和夫 ,  秋山 浩 ,  柳澤 正樹 ,  藤巻 寿隆 ,  アルフレッド スミス ,  ウエイン ニューハウザー
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  ザ ボード オブ レジェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ テキサス システム
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-014375
公開番号（公開出願番号）：特開2006-239404
出願日： 2006年01月23日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：

【課題】厚みが回転方向において変化して通過するイオンビームのエネルギーを変える1つの回転体で治療できる患者数を増加する。【解決手段】イオンビームを患者32に照射して治療を行うイオンビーム出射装置において、イオンビームを発生させるビーム発生装置1と、周回方向に所定の厚さ分布を備え、ビーム発生装置1から発生されたイオンビームの進路上で回転しイオンビームの飛程を制御するレンジモジュレーションホイール29を備えたビーム照射ノズル15と、レンジモジュレーションホイール29の回転位相に応じて、ビーム発生装置1のビーム発生加速動作を制御する照射制御装置38とを備える。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

イオンビームを照射対象に出射するイオンビーム出射装置において、 前記イオンビームを発生させかつ加速させるビーム発生装置と、 厚みが回転方向において変化して通過する前記イオンビームのエネルギーを変える回転体を有し、前記回転体を通過した前記イオンビームを前記照射対象に照射するビーム照射ノズルと、 前記回転体の回転時に、前記ビーム発生装置からの前記イオンビームの出射及び出射停止を制御する制御装置とを備えたことを特徴とするイオンビーム出射装置。

IPC (4件)：

A61N 5/10 ,  G21K 3/00 ,  G21K 5/04 ,  H05H 13/04

FI (7件)：

A61N5/10 H ,  G21K3/00 S ,  G21K3/00 Y ,  G21K5/04 A ,  G21K5/04 C ,  H05H13/04 G ,  H05H13/04 M

Fターム (20件)：

2G085AA13 ,  2G085BA02 ,  2G085BA13 ,  2G085BB17 ,  2G085CA05 ,  2G085CA06 ,  2G085CA21 ,  2G085CA24 ,  2G085CA26 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG02 ,  4C082AG05 ,  4C082AG11 ,  4C082AG35 ,  4C082AG53 ,  4C082AP13 ,  4C082AR02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第5,363,008号
  

審査官引用 (2件)

• 荷電粒子照射装置およびそのビーム照射方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-155466   出願人：三菱電機株式会社
• 荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム照射方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-017660   出願人：株式会社日立製作所