特許
J-GLOBAL ID：200903092458638036

荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム照射方法

発明者：
松田 浩二

松田 浩二 について

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藤巻 寿隆

藤巻 寿隆 について

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柳澤 正樹

柳澤 正樹 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-017660
公開番号（公開出願番号）：特開2004-223144
出願日： 2003年01月27日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
【課題】種々の照射条件に対応して線量分布が調整可能な荷電粒子ビーム照射装置を提供する。【解決手段】荷電粒子ビームのビーム軸とは異なる位置に回転軸5を有するホイール6を配置する。そして、ホイール6は、第1肉厚部6A〜第6肉厚部6Fの順で徐々に薄肉になるように形成する。また、ホイール6は、第1肉厚部6A〜第6肉厚部6Fのそれぞれの各領域における回転軸5周りの円周に占める角度が、回転軸5からの距離に依存して略連続的(略直線的)に変化するように形成する。そして、ビーム4と回転軸5との間の距離を回転軸移動機構を用いて変更し、これによりホイール6に対する荷電粒子ビームの通過位置での厚み分布の特性を変え、ホイール6を通過するビームエネルギーの成分の割合を変更する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビーム発生装置からの荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム照射装置において、 前記荷電粒子ビームのビーム軸とは異なる位置に回転軸を持つ回転体を具備し、前記回転体は、前記荷電粒子ビームの進行方向に対する前記回転体の厚みが異なる複数の領域から構成され、かつ、前記各領域の回転軸周りの円周に占める角度が、回転軸からの距離に依存して略連続的に変化するように形成し、 前記回転軸と前記ビーム軸との間の距離を変更する回転軸移動手段を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。
IPC (3件)：
A61N5/10 ,  G21K3/00 ,  G21K5/04
FI (5件)：
A61N5/10 H ,  A61N5/10 N ,  G21K3/00 S ,  G21K3/00 Y ,  G21K5/04 A
Fターム (4件)：
4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG35 ,  4C082AG42
引用特許：
審査官引用 (5件)
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