特許

J-GLOBAL ID：200903004840156487

有機シリケート重合体およびこれを含む絶縁膜

発明者： カン、チュン-ウォン ,  コ、ミン-ジン ,  シン、ドン-ソク ,  カン、クウィ-クウォン ,  ムン、ミュン-スン ,  ナム、ヘ-ヨン ,  チョイ、ブム-キュ ,  キム、ヨン-ドク ,  キム、ビュン-ロ ,  クウォン、ウォン-ジョン ,  パク、サン-ミン
出願人/特許権者： エルジー・ケム・リミテッド
代理人 (3件)： 朝日奈 宗太 ,  秋山 文男 ,  八島 耕司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-511371
公開番号（公開出願番号）：特表2005-523377
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：

本発明は酸化ヒドロシラン化合物、環状シロキサン化合物、酸化ヒドロシラン化合物とシラン化合物またはシランオリゴマーの第2混合物および環状シロキサン化合物とシラン化合物またはシランオリゴマーの第3混合物からなる群より選択される原料シラン化合物を有機溶媒に混合して第1混合物を製造し、そして、水および触媒を加えて、第1混合物を加水分解および縮合反応させる工程を含む有機シリケート重合体の製造方法、この製造方法によって製造される有機シリケート重合体を利用する半導体素子の絶縁膜形成用組成物、この組成物を塗布して硬化させた半導体素子の絶縁膜の製造方法、ならびに、この製造方法によって製造される絶縁膜を含む半導体素子に関する。

請求項（抜粋）：

有機溶媒に a)酸化ヒドロシラン化合物; b)環状シロキサン化合物; c)酸化ヒドロシラン化合物とシラン化合物またはシランオリゴマーと第2混合物;および d)環状シロキサン化合物とシラン化合物またはシランオリゴマーの第3混合物 からなる群より選択される原料シラン化合物を混合して第1混合物を得る工程、ならびに 該第1混合物を、水および触媒を加えて加水分解および縮合反応させる工程 を含む有機シリケート重合体の製造方法。

IPC (10件)：

C08G77/06 ,  C08G77/38 ,  C08G77/50 ,  C08L5/00 ,  C08L83/04 ,  C08L101/00 ,  C09D5/25 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01L21/312

FI (10件)：

C08G77/06 ,  C08G77/38 ,  C08G77/50 ,  C08L5/00 ,  C08L83/04 ,  C08L101/00 ,  C09D5/25 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01L21/312 C

Fターム (85件)：

4J002CP031 ,  4J002GQ01 ,  4J038AA01 ,  4J038DL021 ,  4J038DL03 ,  4J038DL05 ,  4J038JA17 ,  4J038JA25 ,  4J038JA32 ,  4J038JA55 ,  4J038JB12 ,  4J038KA03 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038LA00 ,  4J038MA06 ,  4J038NA20 ,  4J038NA21 ,  4J038PB09 ,  4J246AA03 ,  4J246AA19 ,  4J246AB01 ,  4J246AB06 ,  4J246AB07 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BA16X ,  4J246BA160 ,  4J246BA310 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB021 ,  4J246BB022 ,  4J246BB130 ,  4J246BB131 ,  4J246BB200 ,  4J246BB201 ,  4J246CA01U ,  4J246CA01X ,  4J246CA010 ,  4J246CA019 ,  4J246CA040 ,  4J246CA049 ,  4J246CA12M ,  4J246CA12X ,  4J246CA120 ,  4J246CA129 ,  4J246CA14X ,  4J246CA140 ,  4J246CA149 ,  4J246CA190 ,  4J246CA199 ,  4J246CA230 ,  4J246CA239 ,  4J246CA24X ,  4J246CA240 ,  4J246CA249 ,  4J246CA250 ,  4J246CA259 ,  4J246CA330 ,  4J246CA339 ,  4J246CA340 ,  4J246CA349 ,  4J246CA390 ,  4J246CA399 ,  4J246CA460 ,  4J246CA469 ,  4J246FA071 ,  4J246FA121 ,  4J246FA131 ,  4J246FA461 ,  4J246FA621 ,  4J246FA691 ,  4J246FB051 ,  4J246FE02 ,  4J246GB32 ,  4J246GC52 ,  4J246GD08 ,  4J246HA63 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AD05 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特表平7-502779
  
• 膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-118951   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 特表平7-502779
  
• 特開昭61-167694