特許
J-GLOBAL ID：200903004854539036

透明ガスバリア膜の製造方法およびそれにより得られる透明ガスバリア膜

発明者：
寺地 誠喜

寺地 誠喜 について

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河村 和典

河村 和典 について

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佐々 和明

佐々 和明 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-229601
公開番号（公開出願番号）：特開2007-046081
出願日： 2005年08月08日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：
【課題】 生産性に優れ、ガスバリア性の高い透明ガスバリア膜の製造が可能な透明ガスバリア膜の製造方法を提供する。【解決手段】 真空槽12中でハース3に入れられた有機材料または無機材料に電子ビーム発生器2により電子ビームを照射して物理的に前記有機材料または前記無機材料を気化する。ここで、前記有機材料または前記無機材料の蒸発源である前記電子ビーム発生器2とは別の圧力勾配型プラズマガン1によって発生されるプラズマを利用して、前記気化した有機材料または無機材料を活性化させて、透明基材フィルム13上に有機薄膜層または無機薄膜層を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基材フィルムの片面または両面に有機薄膜層および無機薄膜層の少なくとも一方を形成する工程を含む透明ガスバリア膜の製造方法であって、前記有機薄膜層および前記無機薄膜層の少なくとも一方を形成する工程は、前記有機薄膜層および前記無機薄膜層の少なくとも一方の形成材料を蒸発源によって物理的に気化し、前記蒸発源とは別のプラズマ発生源によって発生されるプラズマを利用して、前記気化した形成材料を活性化させて、前記透明基材フィルムの片面または両面に前記有機薄膜層および前記無機薄膜層の少なくとも一方を形成する工程である透明ガスバリア膜の製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/32 ,  B32B 9/00 ,  B32B 7/02 ,  C23C 14/06
FI (5件)：
C23C14/32 B ,  B32B9/00 A ,  B32B7/02 103 ,  C23C14/06 K ,  C23C14/06 Q
Fターム (30件)：
4F100AA01B ,  4F100AA20 ,  4F100AH00B ,  4F100AK01A ,  4F100AK42 ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA05 ,  4F100BA08B ,  4F100BA10B ,  4F100EH46 ,  4F100EH66 ,  4F100EJ24 ,  4F100EJ61 ,  4F100GB41 ,  4F100JD02 ,  4F100JD04 ,  4F100JM02B ,  4F100JN01A ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA41 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BB04 ,  4K029CA03 ,  4K029DB08 ,  4K029DB21 ,  4K029DD00 ,  4K029GA03
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特公昭53-12953号公報
  • 特開昭58-217344号公報
  • 国際特許第WO00/26973号パンフレット
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審査官引用 (8件)
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