特許
J-GLOBAL ID:200903004891344857
クリアランス測定方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後藤 政喜 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-373632
公開番号(公開出願番号):特開2003-075145
出願日: 2001年12月07日
公開日(公表日): 2003年03月12日
要約:
【要約】【課題】 クリアランスの測定精度および分布精度を向上可能なクリアランス測定方法を提供する。【解決手段】 金型5のワーク成形面6間のクリアランスを測定するクリアランス測定方法において、クリアランスより板厚寸法の大きい測定部2を備えた測定試料1をクリアランスを測定しようとする金型5の成形面6に設置し、クリアランスを測定しようとする金型5同士を所定位置に接近させて前記測定試料1の測定部2を板厚方向に潰し、測定部2の幅方向寸法X1を測定し、前記幅方向寸法X1に基づきクリアランスを求める。
請求項(抜粋):
金型のワーク成形面間のクリアランスを測定するクリアランス測定方法において、測定部を備えた測定試料を、クリアランスを測定しようとする金型の一方に設置し、クリアランスを測定しようとする金型同士を所定位置に接近させて前記測定試料を板厚方向に潰し、測定部の板厚方向と直角な幅方向寸法の変化量を測定し、前記幅方向寸法の変化量に基づきクリアランスを求めることを特徴とするクリアランス測定方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G01B 21/16
, G01B 11/14 H
Fターム (12件):
2F065AA22
, 2F065CC00
, 2F065FF04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065QQ31
, 2F069AA44
, 2F069BB40
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069HH30
, 2F069NN08
引用特許: