特許
J-GLOBAL ID：200903004907703496
磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
笹島 富二雄
, 西山 春之
, 小川 護晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-074426
公開番号（公開出願番号）：特開2005-322384
出願日： 2005年03月16日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
【課題】磁気記録媒体の磁気層の粒子を高密度化して記録可能量を増加させる。 【解決手段】磁気記録媒体の製造方法は、基板層の上に少なくとも1つの下層をスパッタリングにより形成するステップと、その下層の上に少なくとも1つの中間層をスパッタリングにより形成するステップとを含む。上記下層はクロム系合金からなり、上記中間層はコバルト系合金からなる。さらに、上記中間層の上に少なくとも1つの上層をスパッタリングにより形成するステップを含み、この上層はコバルト系合金からなる。上記下層、中間層及び上層のうちの少なくとも1つ層には、酸化電位が-0.6eV未満の金属Xがドープされる。また、上記下層、中間層及び上層のうちの上記少なくとも1つの層は、酸素存在下で反応性スパッタリングにより形成される。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板と、
クロム系合金からなり、前記基板の上に形成される少なくとも1つの下層と、
コバルト系合金からなり、前記下層の上に形成される少なくとも1つの中間層と、
コバルト系合金からなり、前記中間層の上に形成される少なくとも1つの上層と、を含んで構成され、
前記下層、中間層及び上層のうちの少なくとも1つの層には、酸化電位が-0.6電子ボルト(eV)未満の金属Xの酸化物(X-酸化物)がドープされることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (4件)：
G11B5/65
, G11B5/725
, G11B5/738
, G11B5/851
G11B5/65
, G11B5/725
, G11B5/738
, G11B5/851
5D006AA02
, 5D006BB01
, 5D006BB06
, 5D006BB08
, 5D006CA01
, 5D006CA04
, 5D006CA06
, 5D006DA03
, 5D006FA09
, 5D112AA03
, 5D112AA04
, 5D112AA05
, 5D112BB01
, 5D112BD04
, 5D112BD08
, 5D112FA04
, 5D112FB06
, 5D112FB20
