特許
J-GLOBAL ID：200903004936584501
TiOxの成膜方法及びその装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-183135
公開番号（公開出願番号）：特開2004-027269
出願日： 2002年06月24日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】従来より光触媒性能を向上させるTiOx膜を成膜すること。【解決手段】真空室(1)内で基板(2)と対向してTiで成るターゲット(4)を配設し、前記真空室(1)内にアルゴンガスと酸化ガス(酸素)を導入し前記ターゲット(4)のスパッタにより前記基板(1)にTiOx(x≦2)膜を形成するようにしたTiOxの成膜方法において、前記真空室(1)内に更にH2Oガスを導入するようにした。H2Oを添加した場合と、添加しない場合とで、水の接触角のブラックライトの照射時間との関係を測定した。明らかにH2Oを添加した方が水の接触角は小さくなる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空室内で基板と対向してTiで成るターゲットを配設し、前記真空室内に希ガスと酸化ガスを導入し前記ターゲットのスパッタにより前記基板にTiOx(x≦2)膜を形成するようにしたTiOxの成膜方法において、前記真空室内に更にH2Oガスを導入するようにした
ことを特徴とするTiOxの成膜方法。
IPC (3件)：
C23C14/08
, B01J35/02
, C01G23/04
C23C14/08 E
, B01J35/02 J
, C01G23/04 C
4G047CA02
, 4G047CB04
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069CA10
, 4G069CA17
, 4G069EA08
, 4G069FB02
, 4K029BA48
, 4K029BD00
, 4K029CA06
, 4K029DB03
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 4K029EA05
