特許

J-GLOBAL ID：200903004954492444

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 佐々木 知也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-204239
公開番号（公開出願番号）：特開2006-030232
出願日： 2004年07月12日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】 EBまたはEUV照射下で充分良好な感度、コントラスト、解像力、ラインエッジラフネスを実現できるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、特定構造を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、下記一般式(A)で表される基を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、 (B)活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  C08F 12/14 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F12/14 ,  C08F20/26 ,  H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07R ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-245617   出願人：信越化学工業株式会社
• フォト酸レイビルポリマー及びそれを含むフォトレジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-376468   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー