加熱処理装置および熱処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-286139
公開番号（公開出願番号）：特開平7-115069
出願日： 1993年10月19日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】本発明は、試料を所定温度に予備加熱した状態から急速加熱して、熱ストレスの少ない熱処理を実現するとともに、水蒸気酸化、不純物拡散等の処理を可能にする。【構成】加熱処理装置1としては、予備加熱温度に加熱する試料91が搬入される予備加熱室11と、それに第1開閉部21を介して接続されている予備加熱室とが備えられていて、予備加熱室11と急速加熱室12とを囲む状態に第1加熱手段13が設けられている。そして急速加熱室12内に載置される試料91に熱線を照射することによって、予備加熱した試料91をその温度よりも高い温度に短時間で急速に加熱する第2加熱手段14が、急速加熱室12の外部に設けられているものである。

請求項（抜粋）：

予備加熱する試料が搬入される予備加熱室と、前記予備加熱室に接続した急速加熱室と、前記予備加熱室と前記急速加熱室とを囲む状態に設けた第1加熱手段と、前記急速加熱室内に載置される試料面に熱線を照射することによって、予備加熱温度の試料をその温度よりも高い温度に短時間で急速に加熱するもので、当該急速加熱室の外部に設けた第2加熱手段とを備えたことを特徴とする加熱処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/26 , H01L 21/22 501 , H01L 21/31 , H01L 21/324

FI (2件)：

H01L 21/26 L , H01L 21/31 E

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平3-108320
特開昭62-216223
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-125219 出願人：テル・バリアン株式会社

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